El modelo de iones móviles es un modelo para la reacción de las moléculas en donde se tiene en cuenta el potencial químico y el campo eléctrico; se pueden representar los solventes iónicos de forma explícita o no.

La implantación de iones es un proceso propio de la ingeniería de materiales por el cual los iones de un material pueden ser implantados en otro sólido, cambiando por tanto las propiedades físicas de este último. La implantación de iones es utilizada en la fabricación de dispositivos semiconductores y en el revestimiento de algunos metales, así como en diversas aplicaciones orientadas a la investigación en ciencia de materiales.

La deposición asistida mediante haz de iones o IBAD (no se debe confundir con la deposición inducida mediante iones, IBID) es una técnica de ingeniería de materiales que combina la implantación iónica con el sputtering u otra técnica de deposición física de vapor. Además de que permite un control independiente de los parámetros como la energía de los iones, la temperatura y el ritmo de adición de la especie atómica durante la deposición, esta técnica es especialmente útil para crear transiciones graduales entre el material de sustrato y la película depositada, y para depositar capas con tensiones internas mucho menores de lo que es posible mediante otras técnicas.